RTA设备结构和原理

快速热处理（Rapid Thermal Processing）■ RTA：Rapid Thermal Annealing 快速热退火；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA■ RTO：Rapid Thermal Oxidation 快速热氧化主要用于生长薄绝缘层；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA■ RTCVD：Rapid Thermal CVD 主

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快速退火炉的作用，快速退火炉详细介绍

快速退火炉是利用卤素红外灯做为热源，通过极快的升温速率，将晶圆或者材料快速的加热到300℃-1200℃，从而消除晶圆或者材料内部的一些缺陷，改善产品性能。快速退火炉采用先进的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到极高的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求

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